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一种新颖的采用银膜超级透镜的光刻技术
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Novel optical lithography using silver superlens

摘    要
本文证明了采用银膜超级透镜能够极大地提高传统光刻技术的分辨率。实验与理论研究结果均表明采用银膜超级透镜的光刻技术的分辨率和成形保真度与层间的紧密连接度密切相关。
标    签 光刻技术,银膜超级透镜,PMMA   220.3740   080.3630  
 
Abstract
This work has demonstrated that with silver superlens, the resolution of conventional optical lithography can be improved significantly. Experimental and simulative results are given to verify the facts that the resolution and the pattern fidelity are sensitive to the contact tightness between layers.

中图分类号

 
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收稿日期 2007/8/30

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备注This work was supported by the National Basic Research Program under Grant No.2004CB719801. H. Qin's e-mail address is hattieqin@coer.zju.edu.cn.

引用该论文: Haiyan Qin,Xuan Li,Su Shen. Novel optical lithography using silver superlens[J]. 中国光学快报, 2008, 6(2): 149~151


被引情况:


【1】汪丽春,郭洪菊,邓立,向阳,龚尚庆, "包覆非线性克尔介质的纳米金属孔结构实现光束的分裂与聚焦现象",Chinese Optics Letters 8, 335-337(2010)

【2】杨祎巍,史峥, "一种新的带有线段与控制点映射模型的光学邻近校正技术",光学学报 30, 1667-1672(2010)

【3】李木军,沈连婠,赵玮,郑津津,周杰, "接近式光刻衍射光场的有效波前作用规律分析",光学学报 30, 525-530(2010)

【4】, "A hyperlens-based device for nanoscale focusing of light",Chinese Optics Letters 10, 42302-42304(2012)

【5】常军,邹美芳,王蕊瑞,冯树龙,M.M.Talha, "全反射式极紫外光刻光学系统设计",Chinese Optics Letters 8, 1082-1084(2010)



论文评价
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参考文献
【1】J. B. Pendry, Phys. Rev. Lett. 85, 3966 (2000).
 
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【4】T. Taubner, D. Korobkin, Y. Urzhumov, G. Shvets, and R. Hillenbrand, Science 313, 1595 (2006).
 
【5】P. B. Johnson and R. W. Christy, Phys. Rev. B 6, 4370 (1972).
 
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