中国激光, 2000, 27 (11): 1016, 网络出版: 2006-08-09   

18~20 nm正入射宽带多层膜的研究

Study on 18~20 nm Broadband Multilayer at Normal Incidence
作者单位
1 中国科学院电子学研究所, 北京 100080
2 中国科学院长春光机所应用光学国家重点实验室, 长春 130022
摘要
采用随机数的方法在18~20 nm波段设计了积分反射率最大的宽带多层膜,理论上得到了高于周期膜系8%的积分反射率,同时带宽与视场范围有明显的展宽,并用磁控溅射法进行了初步制备。对反射率的相对测试表明,与周期膜系相比,非周期多层膜的带宽展宽,但峰值反射率略有降低。膜厚控制是实验的难点。
Abstract
In this paper, a better random method used for improving the light integrated reflectance in the 18~20 nm spectral region of a soft X-ray multilayer has been developed, a 8% increase in reflectance is obtained. The multilayer is fabricated by magnetron sputtering. The reflectance comparative measurement are used for testing the multilayer. The results demonstrate that the layer thickness disorder yields band broadening and wider view field with respect to periodic multilayer, but accompanied with a reduction in reflectance peak. Techniques of control layer thickness is the keystone of experiment.

柯常军, 王占山, 万重怡, 曹健林. 18~20 nm正入射宽带多层膜的研究[J]. 中国激光, 2000, 27(11): 1016. 柯常军, 王占山, 万重怡, 曹健林. Study on 18~20 nm Broadband Multilayer at Normal Incidence[J]. Chinese Journal of Lasers, 2000, 27(11): 1016.

本文已被 2 篇论文引用
被引统计数据来源于中国光学期刊网
引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!