强激光与粒子束, 2006, 18 (7): 1211, 网络出版: 2006-10-20
闪光照相中散射照射量的解析分析
Analytic determination of scatter exposure for radiography
摘要
考虑了光子与物质的三种相互作用方式,用解析分析法确定光子在材料中能量的一次散射转化几率,并由此求得闪光照相系统中成像平面上的散射和最小直散比的表达式.用该公式求得的FTO客体的最小直散比约为1.0,与美国NIH实验结果0.5～1.5近似符合.
Abstract
施将君, 李必勇, 刘军, 刘进. 闪光照相中散射照射量的解析分析[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18(7): 1211. 施将君, 李必勇, 刘军, 刘进. Analytic determination of scatter exposure for radiography[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18(7): 1211.
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