光子学报, 2004, 33 (2): 136, 网络出版: 2006-10-25
激光直写光刻中线条轮廓的分析
摘要
考虑了光刻胶对光吸收作用,在已有描述胶层内光场分布模型的基础上,较为准确地推导出光刻胶层内不同深度位置的光场分布.使用迭代方法计算得到了胶层内曝光量空间分布曲线,分析了不同曝光量下胶层内的线条轮廓,为直写光刻中曝光量的选择提供了依据.实验结果分析与理论分析的结果一致.
Abstract
李凤有, 谢永军, 孙强, 曹召良, 卢振武, 王肇圻. 激光直写光刻中线条轮廓的分析[J]. 光子学报, 2004, 33(2): 136. 李凤有, 谢永军, 孙强, 曹召良, 卢振武, 王肇圻. [J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2004, 33(2): 136.
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