光电工程, 2005, 32 (2): 12, 网络出版: 2007-11-14
高精度光刻物镜的变形研究
摘要
高精度光刻物镜是微电子光刻专用设备中的关键部件之一,不仅要求光刻物镜的精度高,还要尽可能地减小装调误差.根据193nm光刻物镜的光学零件结构尺寸,利用大型有限元分析软件Algor和材料力学的应力变形理论,求得了结构形式与重力变形关系,支撑方式与变形的关系,材料不同时的变形趋势图,为整个光刻物镜的装配和调校提供了依据.研究表明,非均匀支撑是引起重力变形的主要原因,在物镜口径(300mm时采用9点以上支撑方式其最大变形量基本恒定,并可预留加工"误差"补偿重力变形.
Abstract
雷江, 蒋世磊, 程刚. 高精度光刻物镜的变形研究[J]. 光电工程, 2005, 32(2): 12. 雷江, 蒋世磊, 程刚. [J]. Opto-Electronic Engineering, 2005, 32(2): 12.
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