光电工程, 2005, 32 (10): 89, 网络出版: 2007-11-14
激光化学诱导液相腐蚀新方法
New method of laser induced wet-chemical etching
摘要
提出了一种激光诱导液相腐蚀新方法--抗蚀膜掩蔽法.抗蚀膜掩蔽法是指在激光腐蚀中,用抗蚀膜来实现对激光腐蚀区域的控制.理论分析和实验结果都表明,抗蚀膜掩蔽法可以有效地控制激光化学腐蚀的图像形状;因不需要对激光光束进行聚焦,光传播垂直于基片表面,制作出的腐蚀孔侧壁可以具有很高的垂直度;利用激光光束中心区域能量分布近似均匀的特点,使小面积腐蚀区域的腐蚀速率近似相等,腐蚀面内各点没有明显的高度差.因为以上优点,抗蚀膜掩蔽法能克服现有激光腐蚀方法的诸多弊端,简化激光腐蚀工艺,在特殊结构光电器件和光电集成中具有广泛的应用前景.
Abstract
刘霖, 叶玉堂, 赵素英, 刘娟秀, 范超, 吴云峰, 王昱琳. 激光化学诱导液相腐蚀新方法[J]. 光电工程, 2005, 32(10): 89. 刘霖, 叶玉堂, 赵素英, 刘娟秀, 范超, 吴云峰, 王昱琳. New method of laser induced wet-chemical etching[J]. Opto-Electronic Engineering, 2005, 32(10): 89.
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