光学 精密工程, 2005, 13 (1): 28, 网络出版: 2007-11-26
W/B4C、W/C、W/Si多层膜的研究
摘要
给出了W/B4C、W/C、W/Si(钨/碳化硼、钨/碳、钨/硅)周期多层膜的制备和测量研究.用超高真空直流磁控溅射方法制备出周期在1.1～7.2 nm范围内的多层膜样品,采用X射线衍射仪(XRD)小角度测量方法检测多层膜的光学性能,并用透射电镜(TEM)对样品的微观结构进行了研究.结果表明:周期大于1.3 nm的多层膜样品的结构质量高,膜层结构清晰,界面粗糙度小;周期为1.15 nm的多层膜的膜层结构不是很明显;所有膜层均为非晶态,没有晶相生成.结果还表明:采用目前的溅射设备和工艺过程能够制备出满足同步辐?溆夤馐呱系ド饔枚嗖隳?
Abstract
王风丽, 王占山, 张众, 吴文娟, 王洪昌, 张淑敏, 秦树基, 陈玲燕. W/B4C、W/C、W/Si多层膜的研究[J]. 光学 精密工程, 2005, 13(1): 28. 王风丽, 王占山, 张众, 吴文娟, 王洪昌, 张淑敏, 秦树基, 陈玲燕. [J]. Optics and Precision Engineering, 2005, 13(1): 28.
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