光子学报, 2006, 35 (10): 1547, 网络出版: 2010-06-03  

氧化镁薄膜的腐蚀速率研究

Study on Eroding Speed of MgO films
作者单位
西安工业大学光电微系统研究所,西安 710032
摘要
研究了以氧化镁(MgO)为牺牲层材料制作热成像阵列器件过程中MgO膜层在磷酸溶液中的湿法腐蚀特性,包括横向腐蚀速率和纵向腐蚀速率,获得了MgO膜层的腐蚀速率随磷酸溶液浓度和温度变化的关系曲线,并得到了用于制作图形和制作悬空结构的较好工艺参量.
Abstract
In this paper,the wetting eroding properties of MgO films,used as sacrificial layer materials,was researched in H3 PO4 solution,including the transverse eroding speed and vertical eroding speed. The relationships between the eroding speed of MgO films in H3 PO4 solution and the temperature and concentration of H3PO4 solution were obtained,and the better technical parameters were obtained for the manufacturing of the MgO films graphs and the holding structure in which MgO is used as sacrificial layer materials.

蔡长龙, 刘欢, 马卫红, 刘卫国. 氧化镁薄膜的腐蚀速率研究[J]. 光子学报, 2006, 35(10): 1547. Cai Changlong, Liu Huan, Ma Weihong, Liu Weiguo. Study on Eroding Speed of MgO films[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2006, 35(10): 1547.

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