强激光与粒子束, 2006, 18 (10): 1648, 网络出版: 2007-01-11
单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究
Preparation and properties
摘要
在碱性条件下通过TEOS和MTES的共水解缩聚反应制备了单甲基原位改性的SiO2溶胶,并使用提拉法在K9玻璃基片上镀制了疏水减反膜.通过透射电镜(TEM)考察了镀膜溶胶的微结构,分别使用红外光谱(FTIR)分析了薄膜的组分,用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌和起伏状况,用紫外可见光谱(UV-vis)考察了薄膜的减反射性能,用接触角仪测量了薄膜对水的接触角.并使用"R-on-1"的方式测量了薄膜在Nd:YAG激光(1
064 nm,1 ns)作用下的损伤阈值.结果表明,通过共水解缩聚反应可以把甲基引入镀膜溶胶簇团中,改善了溶胶簇团的网络结构,使薄膜得到相当好的疏水性能和更好的抗激光损伤性能,同时薄膜能保持较好的减反射性能.
064 nm,1 ns)作用下的损伤阈值.结果表明,通过共水解缩聚反应可以把甲基引入镀膜溶胶簇团中,改善了溶胶簇团的网络结构,使薄膜得到相当好的疏水性能和更好的抗激光损伤性能,同时薄膜能保持较好的减反射性能.
Abstract
张磊, 徐耀, 黄进, 蒋晓东, 吕海滨, 赵松楠, 吴东, 孙予罕, 魏晓峰. 单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18(10): 1648. 张磊, 徐耀, 黄进, 蒋晓东, 吕海滨, 赵松楠, 吴东, 孙予罕, 魏晓峰. Preparation and properties[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18(10): 1648.
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