强激光与粒子束, 2007, 19 (1): 75, 网络出版: 2007-05-22
取样光栅镀膜减反技术研究
Anti-reflection technology for beam sampling grating
摘要
根据惯性约束聚变系统技术要求,提出了镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响零级透过率的问题.使用严格耦合波理论分析了镀sol-gel减反膜的取样光栅特性,详细地分析了仿形膜和平面膜的减反情况和取样效率的变化.结果发现,镀平面膜是一种可行的技术方案,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过取样光栅镀膜减反来达到提高透射率的目的;裸光栅的深度为12 nm时,平面减反膜厚为60 nm,即光学厚度为等效1/4波长:72 nm.此时的透射率为99.8%,取样效率为0.241‰.
Abstract
刘全, 吴建宏. 取样光栅镀膜减反技术研究[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(1): 75. 刘全, 吴建宏. Anti-reflection technology for beam sampling grating[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(1): 75.
PDF全文
