首页 > 论文 > 光电工程 > 33卷 > 12期(pp:15-18)

纳米制造和测量技术产业化的研究

Research on industrialization of nanofabrication and nanometrology

  • 摘要
  • 论文信息
  • 参考文献
  • 被引情况
  • PDF全文
分享:

摘要

从加工尺度的连续性和加工技术的完整性这一新的角度,分析了纳米加工产业化面临的问题,并提出了相应的解决方案--多离子束聚焦投影技术.多离子束聚焦投影技术将填补传统微机加工技术和半导体图形技术之间0.5~5μm的加工空白,并会在1~100nm尺度间实现自上至下技术和自下至上技术的有机结合.纳米测量技术产业化的研究中,以提高扫描探针技术的样品质量作为出发点.在聚焦离子束和扫描电镜平台上集成Ar离子束的"三束"显微镜能有效降低样品的损伤,大大推动了纳米测量技术的发展.

广告组1.2 - 空间光调制器+DMD
补充资料

中图分类号:TN305

所属栏目:纳米技术

收稿日期:2006-04-22

修改稿日期:2006-10-13

网络出版日期:--

作者单位    点击查看

李文萍:中国科学院电工研究所,北京,100080中国科学院研究生院,北京,100039
顾文琪:中国科学院电工研究所,北京,100080

备注:李文萍(1976-),女(汉族),山东潍坊人,博士生,主要从事聚焦离子束光柱体和控制系统的研究.E-mail: liwp@mail.iee.ac.cn

【1】袁哲俊.纳米科学与技术[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2005.YUAN Zhe-jun.Nano science and technology[M].Harbin:Harbin Institute of Technology Press,2005.

【2】张立德,牟季美.纳米材料和纳米结构[M].北京:科学出版社,2005.ZHANG Li-de,MU Ji-mei.Nano-materials and Nano-structure[M].Beijing:Science Press,2005.

【3】S.Matsui,T.Kaito,M.Komuro,et al.Three-dimensional nanostructure fabrication by focused-ion-beam CVD[J].J.Vac.Sci.Technol,2000,B18:3181-3184.

【4】Hans LOESCHNER,Gerhard STENGL,Herbert BUSCHBECK.Large-field particle beam optics for projection and proximity printing and for Mask-Less Lithography (ML2)[J].SPIE''s Journal of Microlithography,Microfabrication and Microsystems,2003,2:34-48.

【5】Toshiaki FUJII,Haruo TAKAHASHI.Triple beam for TEM sample preparation[A].9th European FIB Users Group Meeting[C].Arcachon,France:EFUG,2005.3-4.

【6】Zhaohui CHEN.Development of ion and electron dual FIB apparatus for high spatial resolution three-dimensional microanalysis of solid materials[J].J.Vac.Sci.Technol,1998,B16(4):2473-2478.

引用该论文

李文萍,顾文琪. Research on industrialization of nanofabrication and nanometrology[J]. Opto-Electronic Engineering, 2006, 33(12): 15-18

李文萍,顾文琪. 纳米制造和测量技术产业化的研究[J]. 光电工程, 2006, 33(12): 15-18

您的浏览器不支持PDF插件,请使用最新的(Chrome/Fire Fox等)浏览器.或者您还可以点击此处下载该论文PDF