光子学报, 2003, 32 (10): 1228, 网络出版: 2007-09-17
霍尔源用于光学镀膜
Hall Ion Source for Thin-film Coatings
摘要
报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量.研究表明,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高,更加接近于块状材料,膜层结构比传统沉积手段更加致密,附着力也很高.同时用此项技术沉积了金属增强反射镜,试验结果与理论设计结果相符,达到了理想要求.
Abstract
贾克辉, 黄建兵, 徐颖, 陈红, 高劲松, 曹建林. 霍尔源用于光学镀膜[J]. 光子学报, 2003, 32(10): 1228. 贾克辉, 黄建兵, 徐颖, 陈红, 高劲松, 曹建林. Hall Ion Source for Thin-film Coatings[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2003, 32(10): 1228.
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