强激光与粒子束, 2007, 19 (3): 403, 网络出版: 2007-09-17
化学法制备的HfO2薄膜的激光损伤阈值研究
Laser-induced damage threshold of hafnia thin films with chemical method
摘要
采用化学法制备了HfO2介质膜,研究了热处理、紫外辐照以及Al2O3复合对HfO2介质膜激光损伤阈值的影响.采用红外光谱(FTIR)和X射线衍射仪对薄膜进行了表征,并用输出波长为1.064 μm、脉宽为10 ns的电光调Q激光系统测试薄膜的激光损伤阈值.实验结果表明:采用150 ℃左右的温度对薄膜进行热处理可以提高薄膜的激光损伤阈值,所获得的薄膜的激光损伤阈值高达42.32 J/cm2,比热处理前的激光损伤阈值提高了82%;无机材料Al2O3的适量添加能够提高薄膜的激光损伤阈值,其中HfO2与Al2O3的最佳质量配比约为95∶5;另外,对薄膜进行适当的紫外辐照也可改善HfO2 薄膜以及HfO2-Al2O3复合薄膜的抗激光损伤性能.紫外辐照对提高HfO2-Al2O3复合薄膜的激光损伤阈值效果尤为显著,辐照40 min后的激光损伤阈值达到44.33 J/cm2,比紫外辐照前的激光损伤阈值提高了90%.
Abstract
沈军, 罗爱云, 吴广明, 林雪晶, 谢志勇, 吴晓骀, 刘春泽. 化学法制备的HfO2薄膜的激光损伤阈值研究[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(3): 403. 沈军, 罗爱云, 吴广明, 林雪晶, 谢志勇, 吴晓骀, 刘春泽. Laser-induced damage threshold of hafnia thin films with chemical method[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(3): 403.
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