强激光与粒子束, 2007, 19 (3): 503, 网络出版: 2007-09-17
电子束重复增量扫描曝光技术
Electron beam lithography based on overlapped increment scanning
摘要
提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大.以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子束对570 nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了7次重复增量扫描曝光实验,得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥3维结构,证明了电子束重复增量扫描曝光技术的可行性,为电子束加工3维结构提供了新工艺.
Abstract
孔祥东, 冯圣玉, 卢文娟, 张玉林. 电子束重复增量扫描曝光技术[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(3): 503. 孔祥东, 冯圣玉, 卢文娟, 张玉林. Electron beam lithography based on overlapped increment scanning[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(3): 503.
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