强激光与粒子束, 2007, 19 (4): 700, 网络出版: 2007-09-17
喷嘴-平板直流电晕放电中的OH(A2Σ+→X2Π,0-0)光谱研究
OH(A2Σ+→X2Π,0-0) emission spectrum in nozzle-to-plate DC corona discharge
摘要
为更深入地认识电晕放电低温等离子体中自由基的生成机理,以发射光谱测量为基础并结合背景气体淬灭率影响,研究了常压下喷嘴-平板电晕自由基簇射过程中放电参数、背景气体、电极气成分等因素对OH(A2Σ+→X2Π,0-0)发光的影响.结果表明:在放电参数影响中,放电电压及放电电流都会影响OH生成量,OH发光随功率增加而大大增强;在加湿氮气直流电晕放电中有明显的OH(A2Σ+→X2Π,0-0)光谱存在,但加湿空气条件下OH生成较少;载气增湿后OH生成量明显增多,而Ar和O2的存在分别增强和减弱了OH(A2Σ+→X2Π,0-0)发光,可能的原因是这两种物质影响了放电和OH(A2Σ+)的淬灭.
Abstract
高翔, 余权, 吴祖良, 谭永杰, 沈旭, 骆仲泱, 岑可法. 喷嘴-平板直流电晕放电中的OH(A2Σ+→X2Π,0-0)光谱研究[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(4): 700. 高翔, 余权, 吴祖良, 谭永杰, 沈旭, 骆仲泱, 岑可法. OH(A2Σ+→X2Π,0-0) emission spectrum in nozzle-to-plate DC corona discharge[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(4): 700.
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