强激光与粒子束, 2007, 19 (5): 763, 网络出版: 2007-09-17
Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究
Interface roughness of Mo/Si soft X-ray multilayers
摘要
用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列, 利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度.以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律.并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率.研究表明:随着膜层数的增加,Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小,多层膜的峰值反射率先增加后减小.
Abstract
秦俊岭, 邵建达, 易葵, 周洪军, 霍同林, 范正修. Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(5): 763. 秦俊岭, 邵建达, 易葵, 周洪军, 霍同林, 范正修. Interface roughness of Mo/Si soft X-ray multilayers[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(5): 763.
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