光电工程, 2003, 30 (1): 5, 网络出版: 2007-11-14
制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法
A Phase-Shifting Mask and Double-Laser Beam Interference Exposure Method for Fabrication of Grating in Optic Fibers
摘要
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原理和实验系统设计.提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅.
Abstract
冯伯儒, 张锦, 宗德蓉, 蒋世磊. 制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法[J]. 光电工程, 2003, 30(1): 5. 冯伯儒, 张锦, 宗德蓉, 蒋世磊. A Phase-Shifting Mask and Double-Laser Beam Interference Exposure Method for Fabrication of Grating in Optic Fibers[J]. Opto-Electronic Engineering, 2003, 30(1): 5.
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