光电工程, 2004, 31 (1): 5, 网络出版: 2007-11-14
原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立
Design and construction of an ultrahigh vacuum evaporation equipment for atom photolithography
摘要
原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.
Abstract
陈献忠, 姚汉民, 陈旭南, 李展, 陈元培, 高洪涛, 石建平. 原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立[J]. 光电工程, 2004, 31(1): 5. 陈献忠, 姚汉民, 陈旭南, 李展, 陈元培, 高洪涛, 石建平. Design and construction of an ultrahigh vacuum evaporation equipment for atom photolithography[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(1): 5.
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