光电工程, 2004, 31 (7): 46, 网络出版: 2007-11-14
电寻址空间光调制器制作灰度掩模技术的研究
Study on gray-scale masks manufacture with electrically addressed spatial light modulators
摘要
介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度掩模制作的速度和灵活性.刷新率的变化和黑栅衍射效应将导致衍射效率下降,使得曝光深度误差增加.前者可延长曝光时间来消除,后者可通过高填充因子和放大滤波电路予以有效抑制.与LCD掩模相比,用DMD掩模制作的闪耀光栅的衍射效率提高了10%以上.
Abstract
谌廷政, 吕海宝, 漆新民, 高益庆, 朱小进. 电寻址空间光调制器制作灰度掩模技术的研究[J]. 光电工程, 2004, 31(7): 46. 谌廷政, 吕海宝, 漆新民, 高益庆, 朱小进. Study on gray-scale masks manufacture with electrically addressed spatial light modulators[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(7): 46.
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