光电工程, 2004, 31 (10): 21, 网络出版: 2007-11-14
衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究
Study on fabrication of gray-scale mask for diffractive optical elements
摘要
根据灰度掩模的制作理论,提出了由PP8000胶片输出仪、远心成像透镜组、平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统.通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率,经一次光刻后得到所需的衍射光学元件.该系统不仅可采用黑白胶片制作高分辨率灰度掩模板,还可根据彩色灰度等效理论,利用彩色等效胶片实现256灰度级的扩展细分,以进一步提高灰度掩模板制作的分辨率.对于16台阶灰度掩模,其分辨率可以从0～255扩展到0～1280灰度级.利用该系统给出了二元光栅精缩后的感光图片.
Abstract
漆新民, 谌廷政, 朱小进, 高益庆, 罗宁宁, 王铮. 衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究[J]. 光电工程, 2004, 31(10): 21. 漆新民, 谌廷政, 朱小进, 高益庆, 罗宁宁, 王铮. Study on fabrication of gray-scale mask for diffractive optical elements[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(10): 21.
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