光电工程, 2004, 31 (12): 12, 网络出版: 2007-11-14   

电子束曝光机的偏转系统

Deflection system for electron beam lithography
作者单位
中国科学院电工研究所,北京,100080
摘要
电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描.像差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求.对各种偏转器、偏转方式进行分析、比较,从偏转器空间场的数值计算方法、偏转系统的优化、像差校正、偏转器制作工艺、电气参数等方面阐述设计过程和工程实现上一些值得注意的问题.综合考虑偏转器和偏放电路的设计可以得到最优性能的系统.
Abstract

刘珠明, 顾文琪. 电子束曝光机的偏转系统[J]. 光电工程, 2004, 31(12): 12. 刘珠明, 顾文琪. Deflection system for electron beam lithography[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(12): 12.

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