光电工程, 2007, 34 (8): 28, 网络出版: 2007-11-14
SU-8光刻胶制作三维光子晶体
Three-dimension photonic crystals fabrication using SU-8 photoresist
摘要
针对SU-8光刻胶应用于三维光子晶体的制作研究,本文提出并实现了对SU-8光刻胶的重要成分SU-8环氧树脂采用柱层析和高压液相色谱-尺寸排阻色谱法进行分离,分离结果表明SU-8环氧树脂分子量分布范围很大,从大约100～100000,包括SU-1、SU-2、SU-4、SU-6、SU-8多种组分及其混合物.采用分离后的SU-8和SU-6纯组分配制了性能优化的SU-8光刻胶,并总结了其最佳光刻工艺,结合干涉光刻技术制作了晶格常数为922nm的三维面心立方光子晶体结构.
Abstract
张晓玉, 高洪涛, 周崇喜, 刘强, 邢廷文, 姚汉民. SU-8光刻胶制作三维光子晶体[J]. 光电工程, 2007, 34(8): 28. 张晓玉, 高洪涛, 周崇喜, 刘强, 邢廷文, 姚汉民. Three-dimension photonic crystals fabrication using SU-8 photoresist[J]. Opto-Electronic Engineering, 2007, 34(8): 28.
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