光电工程, 2007, 34 (11): 55, 网络出版: 2008-02-18
工件台移动直线性对掩模移动曝光的影响
Effect of stage moving linear error on exposure in mask moving technique
摘要
针对工件台制造和装配过程中产生的移动直线性误差,建立了掩模沿曲线移动时曝光量与曲线和移动距离之间关系的数学模型.通过对实测工件台移动直线性误差规律的分析,确定了近似的移动曲线函数.利用MATLAB进行数值模拟的方法,分别模拟了沿理想直线移动、不同幅值和不同移动距离的曲线移动时,所获得元件的面形,并分析了面形误差的影响因素和"竹节"误差产生的原因.最后得出结论:通过控制移动距离为一倍的掩模图形重复周期,并减小工件台移动直线性误差,对控制元件的面形精度和"竹节"误差最为有利.
Abstract
佟军民, 胡松, 董小春, 严伟, 余国彬. 工件台移动直线性对掩模移动曝光的影响[J]. 光电工程, 2007, 34(11): 55. 佟军民, 胡松, 董小春, 严伟, 余国彬. Effect of stage moving linear error on exposure in mask moving technique[J]. Opto-Electronic Engineering, 2007, 34(11): 55.
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