光学 精密工程, 2007, 15 (8): 1263, 网络出版: 2008-02-18
利用图像处理技术评价硅片表面清洗率
Evaluation of efficiency for silicon wafer cleaning by image processing
摘要
介绍了一种基于Matlab图像处理工具箱技术的评价硅片表面污染颗粒激光清洗率的新方法.借助Matlab图像处理工具箱,对清洗前后硅片表面光学显微镜照片进行处理,编写硅片表面激光干法清洗率的评价程序,统计清洗前后硅片表面评价区域的污染颗粒个数,对清洗效果进行定量评价.研究结果证明,利用此方法统计的颗粒数准确度达97.6%,得到的激光清洗率准确度达99.2%.结果表明,借助图像处理技术评定清洗效果是一种高效、快速、准确的新方法.
Abstract
王续跃, 许卫星, 司马媛, 吴东江, 康仁科, 郭东明. 利用图像处理技术评价硅片表面清洗率[J]. 光学 精密工程, 2007, 15(8): 1263. 王续跃, 许卫星, 司马媛, 吴东江, 康仁科, 郭东明. Evaluation of efficiency for silicon wafer cleaning by image processing[J]. Optics and Precision Engineering, 2007, 15(8): 1263.
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