光子学报, 2008, 37 (3): 485, 网络出版: 2008-07-08
ZnO的激光分子束外延法制备及X射线研究
XRD Analysis ZnO Frown by Laser Molecular Beam Epitaxy
摘要
利用激光分子束外延(L-MBE)技术在α-Al2O3(0001)衬底上生长出了沿C轴高度择优取向的ZnO外延薄膜,并采用Philips四晶高分辨X射线衍射仪(Philip's X'Pert HR-MRD)对ZnO薄膜的表面及结构特性进行了研究.应用小角度X射线分析方法(GIXA)对ZnO薄膜的表面以及ZnO/Al2O3界面状况进行了定量表征.X射线反射率(XRR)曲线出现了清晰的源于良好表面及界面特性的Kiessig干涉振荡峰,通过对其精确拟合求得ZnO薄膜的表面及界面粗糙度分别为0.34 nm和1.12 nm.ZnO薄膜与α-Al2O3(0001)衬底的XRD在面(in-plane) Φ扫描结果表明形成了单一的平行畴(Aligned in-plane Oriented Domains),其在面外延关系为ZnO[1010] ||Al2O3[1120].XRD ω-2θ扫描以及ω摇摆曲线半峰宽分别为0.12度和1.27度,这一结果表明通过形成平行畴及晶格驰豫过程,ZnO薄膜中的应力得到了有效的释放,但同时也引入了螺位错.
Abstract
杨晓东, 张景文, 毕臻, 贺永宁, 侯洵. ZnO的激光分子束外延法制备及X射线研究[J]. 光子学报, 2008, 37(3): 485. 杨晓东, 张景文, 毕臻, 贺永宁, 侯洵. XRD Analysis ZnO Frown by Laser Molecular Beam Epitaxy[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2008, 37(3): 485.
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