光子学报, 2008, 37 (3): 494, 网络出版: 2008-07-08
脉冲激光沉积PMN-PT薄膜及其性能研究
Characterization of PMN-PT Thin Film Formed by Femtosecond Pulsed Laser Deposition
摘要
以较低温度烧结获得的PMN-PT块材料为靶,采用脉冲激光沉积方法在石英衬底上制备了PMN-PT薄膜,研究了后续退火处理对PMN-PT薄膜的结构及光学特性的影响.结果显示,采用脉冲激光沉积可获得质量较好的钙钛矿结构的PMN-PT薄膜,优化的后续退火温度大约在550℃～750℃之间.
Abstract
童杏林, 姜德生, 刘恋, 刘忠明. 脉冲激光沉积PMN-PT薄膜及其性能研究[J]. 光子学报, 2008, 37(3): 494. 童杏林, 姜德生, 刘恋, 刘忠明. Characterization of PMN-PT Thin Film Formed by Femtosecond Pulsed Laser Deposition[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2008, 37(3): 494.
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