光学仪器, 2007, 29 (6): 81, 网络出版: 2008-08-12
镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响
Influence of chromeplating to the profile of holographic grating mask of photoresist
摘要
为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应.分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略.将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同.槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的.驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离.
Abstract
陈刚, 吴建宏, 刘全. 镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响[J]. 光学仪器, 2007, 29(6): 81. 陈刚, 吴建宏, 刘全. Influence of chromeplating to the profile of holographic grating mask of photoresist[J]. Optical Instruments, 2007, 29(6): 81.
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