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镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响

Influence of chromeplating to the profile of holographic grating mask of photoresist

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摘要

为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应.分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略.将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同.槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的.驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离.

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补充资料

中图分类号:O436.1

所属栏目:工艺

基金项目:江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020)

收稿日期:2007-03-19

修改稿日期:--

网络出版日期:--

作者单位    点击查看

陈刚:南京信息职业技术学院微电子工程系,江苏,南京,210046
吴建宏:苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006
刘全:苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006

备注:陈刚(1976-),男,江苏镇江人,助教,硕士,主要从事衍射光学元件方面的研究.

引用该论文

陈刚,吴建宏,刘全. Influence of chromeplating to the profile of holographic grating mask of photoresist[J]. Optical Instruments, 2007, 29(6): 81-84

陈刚,吴建宏,刘全. 镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响[J]. 光学仪器, 2007, 29(6): 81-84

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