光学仪器, 2006, 28 (4): 48, 网络出版: 2008-08-12
最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响
Influence of the least layer thickness on the characterization of the X-ray non-periodic multilayer
摘要
选用能制备小周期的钨/硅(W/Si)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响.基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°～1.10°,1.40°～1.70°的X射线超反射镜.结合实际实验制备技术,考虑了W/Si两种膜层材料的最小成膜厚度,确定了膜堆中最小膜层厚度为0.5nm～1.0nm.通过改变最小膜层厚度的值,优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较.结果表明:同一个工作波长下,随着多层膜工作角度(掠入射)的增加,膜堆中膜层的厚度减小,最小膜层厚度对其光学性能的影响增加,其光学性能变差.
Abstract
王风丽, 张众, 朱京涛, 王洪昌, 吴文娟, 王占山, 陈玲燕. 最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响[J]. 光学仪器, 2006, 28(4): 48. 王风丽, 张众, 朱京涛, 王洪昌, 吴文娟, 王占山, 陈玲燕. Influence of the least layer thickness on the characterization of the X-ray non-periodic multilayer[J]. Optical Instruments, 2006, 28(4): 48.
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