应用激光, 2008, 28 (1): 19, 网络出版: 2008-08-17
高反射率193nm反射膜的实现
The Achieving of High-reflectance 193nm HR Coatings
摘要
对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上.
Abstract
尚淑珍, 赵祖欣, 邵建达, 范正修. 高反射率193nm反射膜的实现[J]. 应用激光, 2008, 28(1): 19. 尚淑珍, 赵祖欣, 邵建达, 范正修. The Achieving of High-reflectance 193nm HR Coatings[J]. APPLIED LASER, 2008, 28(1): 19.