强激光与粒子束, 2007, 19 (12): 2087, 网络出版: 2008-08-17
离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性
Characters of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition
摘要
采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究.实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀性,施加离子辅助可以提高薄膜的折射率,在一定条件下还可以有效地降低吸收,但激光损伤阈值仍未达到直接采用氧化铪制备的水平;晶体结构方面,离子辅助条件下可以获得单斜相氧化铪薄膜,并且随着轰击能量的提高由(002)面的择优取向向(-111)面转变.
Abstract
王聪娟, 晋云霞, 邵建达, 范正修. 离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(12): 2087. 王聪娟, 晋云霞, 邵建达, 范正修. Characters of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(12): 2087.
PDF全文
