强激光与粒子束, 2008, 20 (2): 234, 网络出版: 2008-08-17   

nm量级薄膜厚度测量

Layer thickness measurement of super thin films
作者单位
中国科学院,高能物理研究所,北京,100049
摘要
为了获得nm量级薄膜样品的精确厚度,采用软X射线反射率拟合方法、Bragg衍射方程方法和反射率Fourier变换方法分析了常规Cu靶X射线衍射数据及软X射线反射率数据.对厚度测量结果进行比较,3种方法得到的结果一致性很好.其中,软X射线反射率拟合和Bragg衍射方程方法精度很高,优于1 nm,Fourier变换方法精度稍低.对于单层W薄膜样品,3种方法获得厚度分别为(15.21±0.60) nm,(14.0±1.0) nm和(13.8±1.5) nm;对于双层W/C薄膜样品,W层厚度分别为(12.64±0.60) nm,(13.0±1.0) nm和(13.9±1.5) nm.这3种方法测量结果精度主要取决于反射率数据测量精度,而Fourier变换方法精度随着能量升高而提高,随着掠入射角范围增大而提高.
Abstract

陈凯, 崔明启, 郑雷, 赵屹东. nm量级薄膜厚度测量[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(2): 234. 陈凯, 崔明启, 郑雷, 赵屹东. Layer thickness measurement of super thin films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20(2): 234.

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