强激光与粒子束, 2008, 20 (3): 413, 网络出版: 2008-08-17
膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响
Effects of thickness on microstructure and properties of Niobium films deposited by DC magnetron sputtering
摘要
采用直流磁控溅射方法制备膜厚为50, 100, 200, 400, 600 nm的Nb薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、晶体结构进行了研究,并对其应力和择优取向进行了详细的分析.原子力显微镜图像显示Nb膜表面光滑、致密,均方根粗糙度达到0.1 nm量级.X射线小角衍射给出了薄膜的晶格结构、晶粒尺寸和应力情况.分析表明薄膜为多晶体心立方结构(bcc),在(110)晶面方向存在明显的择优取向,且随着薄膜厚度增大而增强.Nb膜应力先随薄膜厚度增大而增大,在200 nm时达到最大值(为1.015 1 GPa),后随薄膜厚度的增大有所减小.
Abstract
作者简介：联系作者:吴卫东,研究员,主要从事薄膜物理研究;wuweidongding@163.com.
林华平, 吴卫东, 何智兵, 许华, 李俊, 王锋, 李盛印, 张宝玲, 宋萍, 江玲, 谌家军, 唐永建. 膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(3): 413. 林华平, 吴卫东, 何智兵, 许华, 李俊, 王锋, 李盛印, 张宝玲, 宋萍, 江玲, 谌家军, 唐永建. Effects of thickness on microstructure and properties of Niobium films deposited by DC magnetron sputtering[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20(3): 413.
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