光散射学报, 2007, 19 (4): 363, 网络出版: 2008-08-17
355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究
Study of SU-8 resist for 355nm laser Lithography by X-ray Photoelectron Spectroscopy and Fourier Transform Infrared Spectroscopy
摘要
SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用.众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,355nm激光对SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系.
Abstract
宋海英, 刘世炳. 355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究[J]. 光散射学报, 2007, 19(4): 363. 宋海英, 刘世炳. Study of SU-8 resist for 355nm laser Lithography by X-ray Photoelectron Spectroscopy and Fourier Transform Infrared Spectroscopy[J]. The Journal of Light Scattering, 2007, 19(4): 363.
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