红外与毫米波学报, 2008, 27 (2): 101, 网络出版: 2008-08-17   

快速热退火对纳米晶粒SnO2薄膜性质的影响

EFFECT OF RAPID THERMAL ANNEALING ON PROPERTY OF NANO-SnO2 THIN FILM
作者单位
1 华东师范大学,信息学院,上海,200241
2 上海大学,分析测试中心,上海,200444
摘要
以SnCl2·2H2O及无水乙醇为原料,利用溶胶-凝胶法在快速热退火下制备了SnO2纳米薄膜,研究了快速热退火(RTA)对SnO2薄膜性质的影响.采用X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM),研究了薄膜的晶粒尺寸、微结构、表面形貌与快速热退火条件的关联,用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和光致发光研究了薄膜的光学性质.结果表明,快速热退火(RTA)温度对薄膜的光学性质、晶粒尺寸和薄膜的结构形态均有较大的影响.
Abstract

秦苏梅, 童梓洋, 邓红梅, 杨平雄. 快速热退火对纳米晶粒SnO2薄膜性质的影响[J]. 红外与毫米波学报, 2008, 27(2): 101. 秦苏梅, 童梓洋, 邓红梅, 杨平雄. EFFECT OF RAPID THERMAL ANNEALING ON PROPERTY OF NANO-SnO2 THIN FILM[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2008, 27(2): 101.

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