中国激光, 2010, 37 (2): 385, 网络出版: 2010-02-03   

GaN负电子亲和势光电阴极的激活工艺

Activation Technique of GaN Negative Electron Affinity Photocathode
作者单位
1 重庆大学 光电工程学院光电技术与系统教育部重点实验室,重庆 400044
2 南京理工大学 电子工程与光电技术学院,江苏 南京 210094
摘要
以金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延的p型GaN为阴极发射层材料,通过对激活过程中阴极光电流的在线监测,考察了Cs激活,Cs/O交替激活以及高低温两步激活对GaN阴极光电发射性能的影响。实验结果表明,单用Cs激活就可制备出量子效率约为20%的GaN光电阴极,Cs激活后再进行2-3个Cs/O循环激活可小幅度提高量子效率,高低温两步激活不能进一步提高量子效率。利用偶极层表面模型对实验现象进行了解释。
Abstract
Metal organic chemistry vaporation deposition (MOCVD) epitaxial p-type GaN layer is used as emission material of GaN photocathode. By using on-line measurement of photocurrent in activation process,the influences of Cs activation,Cs/O alternate activation and high-low temperature two-step activation techniques on photoemission performance of GaN photocathode are investigated. The experimental results show that GaN photocathode can obtain about 20% quantum efficiency only by Cs activation,and the quantum efficiency can be increased slightly by two or three Cs/O cycles. But the high-low two-step activation technique can not increase the quantum efficiency. The experimental phenomena are explained by the dipole surface model.

杜晓晴, 常本康, 钱芸生, 富容国, 高频, 乔建良. GaN负电子亲和势光电阴极的激活工艺[J]. 中国激光, 2010, 37(2): 385. Du Xiaoqing, Chang Benkang, Qian Yunsheng, Fu Rongguo, Gao Pin, Qiao Jianliang. Activation Technique of GaN Negative Electron Affinity Photocathode[J]. Chinese Journal of Lasers, 2010, 37(2): 385.

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