激光与光电子学进展, 2011, 48 (11): 111101, 网络出版: 2011-09-30   

高分辨率投影光刻机光瞳整形技术 下载: 1097次

Pupil Shaping Techniques in High Resolution Projection Exposure Tools
作者单位
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院研究生院, 北京 100049
摘要
在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反射镜阵列(MMA)的3种光瞳整形技术,并对这些技术的工作原理、设计制作方法和性能特点进行了归纳与总结。
Abstract
In the high resolution optical lithography technology, illumination pupil shaping is employed to enhance the lithography resolution and achieve high imaging performance by using various illumination modes according to different mask structures. In this paper, three approaches of pupil shaping techniques based on diffractive optical element (DOE), micro lens array (MLA) and micro mirror array (MMA) are summarized. The principles, design and manufacturing methods are concluded.

胡中华, 杨宝喜, 朱菁, 肖艳芬, 曾爱军, 黄立华, 赵永凯, 黄惠杰. 高分辨率投影光刻机光瞳整形技术[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 48(11): 111101. Hu Zhonghua, Yang Baoxi, Zhu Jing, Xiao Yanfeng, Zeng Aijun, Huang Lihua, Zhao Yongkai, Huang Huijie. Pupil Shaping Techniques in High Resolution Projection Exposure Tools[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2011, 48(11): 111101.

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