液晶与显示, 2012, 27 (2): 208, 网络出版: 2012-05-08   

Zara漏光和Rubbing Mura改善研究

Zara and Rubbing Mura Research
作者单位
成都京东方光电科技有限公司 CELL技术部,四川 成都611731
摘要
研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕 Mura的原因。
Abstract
The dependence of Zara and Rubbing Mura on Rubbing intensity has been studied. The experimental result show that, when Rubbing intensity is low, Zara easily occurs, and when rubbing intensity is high, rubbing Mura easily occurs. By selecting the right rubbing intensity, the incidence of Zara and rubbing Mura can be reduced. In addition, through using FIB to observe the surface of the substrate, it is found the reason of FFS product prone to occur Zara and Rubbing Mura

石天雷, 杨国波, 程石, 杭苗. Zara漏光和Rubbing Mura改善研究[J]. 液晶与显示, 2012, 27(2): 208. SHI Tian-lei, YANG Guo-bo, CHENG Shi, HANG Miao. Zara and Rubbing Mura Research[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2012, 27(2): 208.

本文已被 16 篇论文引用
被引统计数据来源于中国光学期刊网
引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!