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用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计

Design of Micro-Cylindrical-Lens Array Used for Illumination Uniformization in Lithography Systems

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摘要

均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件。采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性。基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透镜阵列,并通过优化设计,克服了微透镜之间的接缝在远场光场处产生的中心亮线。仿真分析表明,所设计的微透镜阵列的远场分布不均匀性达到0.85%。

Abstract

Uniform illumination is an important condition for maintaining high uniformization consistence of lithography lines in projection lithography. Micro-lens array used as the illumination uniformization component can make the rectangular illumination spot as well as acquire high far field uniformization. Based on modern processing technology, the cylindrical micro-lens array divided in two-dimension is designed, and the central bright line in the far field created by the transition area between the micro-lens array is eliminated. Simulation results show that the far field non-uniformi of the designed micro-lens array reaches 0.85%.

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补充资料

中图分类号:O435

DOI:10.3788/cjl201340.0216001

所属栏目:光学设计与制造

责任编辑:韩峰  信息反馈

基金项目:国家科技重大专项(2011ZX02402)和国家国际科技合作项目(2011DFR10010)资助课题。

收稿日期:2012-08-07

修改稿日期:2012-10-22

网络出版日期:--

作者单位    点击查看

肖艳芬:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
朱菁:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
杨宝喜:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
胡中华:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049
曾爱军:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
黄惠杰:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800

联系人作者:肖艳芬(yanfenxiao2007@163.com)

备注:肖艳芬(1985—),女,硕士,实习研究员,主要从事光学设计和精密测量等方面的研究。

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引用该论文

Xiao Yanfen,Zhu Jing,Yang Baoxi,Hu Zhonghua,Zeng Aijun,Huang Huijie. Design of Micro-Cylindrical-Lens Array Used for Illumination Uniformization in Lithography Systems[J]. Chinese Journal of Lasers, 2013, 40(2): 0216001

肖艳芬,朱菁,杨宝喜,胡中华,曾爱军,黄惠杰. 用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计[J]. 中国激光, 2013, 40(2): 0216001

被引情况

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