中国激光, 2004, 31 (s1): 492, 网络出版: 2013-01-29  

化学氧碘激光器光学基片材料的光致热畸变特性

Characteristics of Thermal Distortions of Optical Substrate Surfaces Subject to Irradiation of Chemical Oxygen-Iodine Laser
作者单位
1 河南师范大学物理与信息工程学院, 河南 新乡 453002
2 华中科技大学激光技术国家重点实验室, 湖北 武汉 430074
摘要
利用格林函数解析法对强激光辐照下的光学材料Al2O3、CaF2、Si、SiO2四种基片的温度场分布以及热畸变特性进行了分析与讨论.计算结果表明:在10lW激光功率、辐照时间为5 s情况下,Al2O3、CaF2、Si、SiO2基片中心处最大温升分别为5.6℃、6.0℃、35.1℃、26.6℃;基片中心最大热畸变量分别为:0.28μm,0.99μm,040μm,0.14μm.
Abstract
Temperature distributions and thermal deformations of silicon, sapphire, and calcium fluoride window substrates at 1.315 μm are calculated in terms of Green-function methods. The calculated results show that under conditions of irradiating of 10 kW intense laser with Gaussian shape, the maximum temperature rise in Al2O3, CaF2, Si, and SiO2 substrates is 5.6 ℃, 6.0 ℃, 35.1 ℃, and 26.6 ℃, respectively. The amount of thermal distortions in Аl2O3, CaF2, Si, and SiO2 substrates is 0.28 μm, 0.99 μm, 0.40 μm, and 0.14 μm, respectively.

彭玉峰, 程祖海, 盛朝霞, 余文峰, 张虎, 周次明. 化学氧碘激光器光学基片材料的光致热畸变特性[J]. 中国激光, 2004, 31(s1): 492. PENG Yu-feng, CHENG Zu-hai, SHENG Zhao-xia, YU Wen-feng, ZHANG Hu, ZHOU Ci-ming. Characteristics of Thermal Distortions of Optical Substrate Surfaces Subject to Irradiation of Chemical Oxygen-Iodine Laser[J]. Chinese Journal of Lasers, 2004, 31(s1): 492.

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!