发光学报, 2013, 34 (6): 711, 网络出版: 2013-06-14   

工作气压对ZnO∶Mn薄膜结构特性的影响

Influence of Working Pressure on The Structural Properties of ZnO∶Mn Thin Films
作者单位
1 天津职业技术师范大学 电子工程学院, 天津300222
2 东京理科大学 物理系, 日本 东京
摘要
利用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上沉积了一系列ZnO∶Mn薄膜, 结合Raman光谱、XRD衍射谱和SEM分析了工作气压对ZnO∶Mn薄膜结构特性的影响。 Raman拟合光谱显示, 在工作气压从1 Pa增加至4 Pa的过程中, ZnO∶Mn薄膜始终保持着六角纤锌矿结构。 但是, 随着气压的降低, 对应于E2(High)振动模式的Raman散射峰以及与Mn掺杂相关的特征峰左移, 说明在低工作气压时, ZnO∶Mn薄膜内晶格缺陷更多, 晶格更加无序。这一结论也得到了XRD和SEM结果的证实。
Abstract
ZnO∶Mn thin films were prepared on glass substrates using RF magnetron sputtering method. Raman spectroscopy, X-ray diffraction spectra and SEM were used to analyze the structural characteristics of ZnO∶Mn films with the different working pressure. The results show that ZnO∶Mn thin films have the significant wurtzite structure with the different working pressure. The leftshifts of the Raman peaks corresponding to E2(High) mode and related to Mn doping are explained by the appearance of much more lattice defects and disorder in ZnO∶Mn films with decreasing working pressure, which are also evidenced by XRD and SEM results.

李彤, 介琼, 张宇, 倪晓昌, 赵新为. 工作气压对ZnO∶Mn薄膜结构特性的影响[J]. 发光学报, 2013, 34(6): 711. LI Tong, JIE Qiong, ZHANG Yu, NI Xiao-chang, ZHAO Xin-wei. Influence of Working Pressure on The Structural Properties of ZnO∶Mn Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2013, 34(6): 711.

本文已被 1 篇论文引用
被引统计数据来源于中国光学期刊网
引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!