液晶与显示, 2013, 28 (4): 539, 网络出版: 2013-08-28   

TFT-LCD横向线状未确认Mura分析及改善研究

Analysis and Improvement of TFT-LCD Horizontal Line Unknown Mura
作者单位
1 清华大学 电子工程系, 北京100084
2 北京京东方显示技术有限公司 客户服务部, 北京100176
3 京东方科技集团股份有限公司 Module材料企划部, 北京100176
4 京东方科技集团股份有限公司 TV部, 北京100176
摘要
研究了产品开发过程中新出现的一种原因未知的横向线状Mura问题。通过分析和改善研究表明, Gate Fan-out区域栅极线金属交替布线设计中不同金属层线电阻差异是导致横向线状未确认Mura发生的主要原因;通过变更栅极线金属层厚度及材料, 以降低整体电阻和不同金属层线电阻差异可以解决此种不良现象;并通过试验论证此方法的量产可行性。
Abstract
A new unknown horizontal line Mura which happened in a new product development has been studied. Through analysis and improvement study, it was found that Fan-out area Gate-Line metal resistance difference of different layer in alternate layout design is the main reason for this unknown Mura defect. The experimental results show that this defect can be solved by changing the material and thickness of Gate-Line layer, and the feasibility of mass production was demonstrated through experimentation.

徐伟, 彭毅雯, 雷有华, 邱海军. TFT-LCD横向线状未确认Mura分析及改善研究[J]. 液晶与显示, 2013, 28(4): 539. XU Wei, PENG Yi-wen, LEI You-hua, QIU Hai-jun. Analysis and Improvement of TFT-LCD Horizontal Line Unknown Mura[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2013, 28(4): 539.

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