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神光Ⅲ中退偏现象对系统隔离比的影响

Research on isolation ratio limit induced by depolarization in Shenguang-Ⅲ laser facility

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摘要

通过离线实验指出了神光Ⅲ主机装置联机调试阶段中限制系统隔离比提高的主要因素来自于转角体结构中反射膜引入的退偏效应。从膜系理论出发建立了神光Ⅲ主机装置中的转角体结构的反射系数的计算模型,进而通过计算指出了退偏效应的主要来源是反射膜层厚度的偏差,然后通过数值计算与离线实验结果的对比确定了转角体结构中各个反射镜的反射系数。由此得到了转角体结构的总反射系数及其造成的神光Ⅲ主机装置系统隔离比的提升上限和进一步提升系统隔离比的思路。

Abstract

Laser depolarization induced by the propagation-rotation structure would greatly affect the isolation ratio of the Shenguang-Ⅲ laser facility. We build a simulation model on the reflectance coefficient of the propagation-rotation structure based on the film system theory, and point out that the depolarization origins from the reflective film thickness error. Through comparison between the simulation result and the off-line experimental result, we obtain the reflectance coefficient of each reflective film inside the propagation-rotation structure. Furthermore, we obtain the total reflectance coefficient of the propagation-rotation structure and then the system isolation ratio limit.

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补充资料

中图分类号:TN248.1

DOI:10.3788/hplpb20132512.3197

所属栏目:驱动器

基金项目:国家高技术发展计划项目

收稿日期:2013-09-11

修改稿日期:2013-09-30

网络出版日期:--

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温静:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
张鑫:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
周维:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
唐菱:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
王渊承:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
邓武:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
胡东霞:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900

联系人作者:温静(sevenheero@pku.edu.cn)

备注:温静(1983—),男,助理研究员,主要从事高功率固体激光装置研究。

【1】Rhodes M A, Fochs S, Biltoft P. Plasma electrode pockels cell for the National Ignition Facility[C]//1998 American Nuclear Society Annual Meeting. 1998.

【2】Paisner J A, Campbell E M, Hogan W J. The National Ignition Facility Project[C]//American Nuclear Society 11th Annual Meeting on the Technology of Fusion Energy. 1994.

【3】Kruschwitz B E, Kelly J H, Shoup M J, et al. High-contrast plasma-electrode Pockels cell[J]. Appl Opt, 2007, 46(8): 1326-1332.

【4】Gardelle J, Pasini E. A simple operation of a plasma-electrode pockels cell for the laser megajoules[J]. J Appl Phys, 2002, 91: 2631-2636.

【5】Arnold P A, James G F, Petersen D E, et al. An update on nif pulsed power[C]//IEEE Pulsed Power Conference. 2009: 352-356.

【6】李刚,孙连春,于兆波,等.光学薄膜中的偏振效应[J].光学 精密工程, 2003, 11(6): 647-651.(Li Gang, Sun Lianchun, Yu Zhaobo, et al. Polarization effects in optical thin films. Optics and Precision Engineering, 2003, 11(6): 647-651)

【7】颜宏,叶一东,张卫,等.共孔径偏振耦合分光系统中反射镜造成的相位延迟差的测量[J].强激光与粒子束, 2006, 18(5): 753-756.(Yan Hong, Ye Yidong, Zhang Wei, et al. Measurement of phase difference caused by plane mirror for laser launched and received in common aperture. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18(5): 753-756)

【8】邓武,张崑,蒋学君,等.神光Ⅲ装置主放大系统构型及输出能力实验研究[J].强激光与粒子束, 2011, 23(10): 2608-2612.(Deng Wu, Zhang Kun, Jiang Xuejun, et al. Experimental research of Shenguang-Ⅲ main amplifier configuration and energy output capability. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23(10): 2608-2612)

【9】付雄鹰,孙明东,胡建平,等.波长1064 nm脉冲激光高阈值反射膜的研制[J].强激光与粒子束, 1999, 11(4): 413-417.(Fu Xiongying, Sun Mingdong, Hu Jianpin, et al. Deposition of multilayer for pulse laser mirror with high laser induced damage threshold. High Power Laser and Particle Beams, 1999, 11(4): 413-417)

【10】唐晋发,顾培夫,刘旭,等.现代光学薄膜技术[M].杭州: 浙江大学出版社, 2006.(Tang Jinfa, Gu Peifu, Liu Xu, et al. Modern optical thin film technology. Hangzhou: Zhejiang University Press, 2006)

引用该论文

Wen Jing,Zhang Xin,Zhou Wei,Tang Ling,Wang Yuancheng,Deng Wu,Hu Dongxia. Research on isolation ratio limit induced by depolarization in Shenguang-Ⅲ laser facility[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25(12): 3197-3200

温静,张鑫,周维,唐菱,王渊承,邓武,胡东霞. 神光Ⅲ中退偏现象对系统隔离比的影响[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25(12): 3197-3200

被引情况

【1】杨宇飞,颜昌翔,胡春晖,吴从均. 相干激光通信光学系统偏振像差研究. 光学学报, 2016, 36(11): 1106003--1

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