激光与光电子学进展, 2015, 52 (3): 030003, 网络出版: 2015-02-05   

无杂质空位诱导量子阱混杂研究及应用现状 下载: 1034次

Present Status of Impurity Free Vacancy Disordering Research and Application
作者单位
1 西安理工大学自动化与信息工程学院, 陕西 西安 710048
2 中国科学院半导体研究所, 北京 100083
3 中国科学院西安光学精密机械研究所, 瞬态光学与光子技术国家重点实验室, 陕西 西安 710119
摘要
自量子阱混杂发现以来,其在这几十年的发展中取得了巨大进步。在各种量子阱混杂的方法中,无杂质空位扩散诱导量子阱混杂(IFVD)以其独特的优势获得了细致的研究和广泛的应用。主要从混杂原理、介质膜类型、材料系、低维量子点中的应用和器件应用等几个方面来全面分析IFVD 研究和应用现状。
Abstract
With the discovery of quantum well intermixing (QWI), it has made tremendous progress over the past few years. Among all the approaches of QWI, meticulous researches and wide range of applications are acquired in impurity free vacancy disordering (IFVD) owing to its unique merits. Present status of IFVD research and application is comprehensively analyzed from the aspect of theory, dielectric films, materials, quantum dots and applications.

林涛, 孙航, 张浩卿, 林楠, 马骁宇, 王勇刚. 无杂质空位诱导量子阱混杂研究及应用现状[J]. 激光与光电子学进展, 2015, 52(3): 030003. Lin Tao, Sun Hang, Zhang Haoqing, Lin Nan, Ma Xiaoyu, Wang Yonggang. Present Status of Impurity Free Vacancy Disordering Research and Application[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2015, 52(3): 030003.

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