半导体光电, 2016, 37 (6): 809, 网络出版: 2016-12-30  

表面残留颗粒对晶圆键合影响机制的研究

Effects of Surface Residual Particles on Wafer Bonding
作者单位
1 中国科学院微电子研究所 1. 微电子器件与集成技术重点实验室
2 2. 高频高压器件与集成研发中心
3 中国科学院微电子研究所 2. 高频高压器件与集成研发中心
4 智能感知研发中心, 北京 10009
摘要
着重分析了晶圆表面残留颗粒对晶圆键合的影响, 并从表面残留颗粒统计意义的角度, 得到了一个晶圆键合的判定标准。为了改善键合界面出现的气泡问题, 一种基于点压技术的新型点压键合法被应用到整片键合中, 并和传统的金金热压键合法进行了比较。实验表明, 采用点压键合法能够有效抑制晶圆表面残留颗粒对晶圆键合的影响。
Abstract
The effects of residual particles on wafer bonding were analyzed, and then, a bonding criterion was proposed in the view of particles statics. In order to solve the problem of bubbles generated by residual particles on the surface, a new wafer bonding method, called Spot Pressing Bonding, was applied to the bonding of wafers, and then it was compared with the conventional Au-Au thermocompression bonding. The experimental results suggest that bubbles on the bonding interface can be reduced significantly by Spot Pressing Bonding.

许维, 王盛凯, 徐杨, 王英辉, 陈大鹏, 刘洪刚. 表面残留颗粒对晶圆键合影响机制的研究[J]. 半导体光电, 2016, 37(6): 809. XU Wei, WANG Sheng Kai, XU Yang, WANG Yinghui, CHEN Dapeng, LIU Honggang. Effects of Surface Residual Particles on Wafer Bonding[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2016, 37(6): 809.

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