液晶与显示, 2017, 32 (3): 169, 网络出版: 2017-03-29   

超高色域图案化量子点彩膜的研究

Ultro-high color gamut and patterned color filter based on quantum dot photoresist
作者单位
京东方科技集团股份有限公司 显示器件事业群, 北京 100176
摘要
平板显示中影响色域的两个关键因素为背光源发光光谱特性和彩色滤光片的透过光谱特性。在TFT-LCD的高色域领域, 为了实现BT2020标准, 我们开发了量子点光刻胶替代彩色滤光片的方法。首先合成新型的量子点光刻胶, 将其作为色彩转换膜制备在彩色滤光片下方, 通过背光激发量子点自发光, 可得到色纯度更高的红绿光。研究表明, 自主开发的量子点光刻胶可以有效地进行色转换, 可耐受光刻工艺, 在高温烘烤和碱性显影下, 可保持一定转换效率, 且能实现pattern化, 避免目前用白光直接搭配彩膜的漏光问题, 有效地提高色域。
Abstract
The spectra of color filter and back light are important factors that affect color gamut in display area. In order to achieve higher color gamut (BT2020) in TFT-LCD area, we developed a novel quantum dot resist which can displace color filter and improve color pure. This quantum dot resist could be patterned through photo process including cleaning, coating, exposure, developing and post bake. The result indicates that quantum dot resist can achieve higher color gamut than quantum dot BLU.

齐永莲, 王丹, 邱云, 张斌, 周婷婷, 谢蒂旎, 薛建设, 赵合彬, 曲连杰, 石广东. 超高色域图案化量子点彩膜的研究[J]. 液晶与显示, 2017, 32(3): 169. QI Yong-lian, WANG Dan, QIU Yun, ZHANG Bin, ZHOU Ting-ting, XIE Di-ni, XUE Jian-she, ZHAO He-bin, QU Lian-jie, SHI Guang-dong. Ultro-high color gamut and patterned color filter based on quantum dot photoresist[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2017, 32(3): 169.

本文已被 4 篇论文引用
被引统计数据来源于中国光学期刊网
引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!