中国激光, 2019, 46 (5): 0508001, 网络出版: 2019-11-11   

超快光电子显微技术在纳米光子学中的应用 下载: 2150次

Applications of Ultrafast Photoemission Electron Microscopy in Nanophotonics
作者单位
1 北海道大学电子科学研究所, 日本 札幌 001-0020
3 北京大学物理学院, 北京 100871
摘要
对超快光电子显微技术的基本原理和主要应用进行了简单介绍。着重介绍了超快光电子显微镜在纳米光子学,特别是在表面等离激元光子学领域中的研究进展,主要包括近场成像、近场光谱以及时间分辨的动力学过程。这些研究有助于更直观深刻地理解表面等离激元的基本性质、不同模式之间的相互作用,以及更好地设计及拓展表面等离激元的应用。最后,对该技术的应用前景进行了展望。
Abstract
A brief overview of the basic principles and main applications of ultrafast photoemission electron microscopy is presented in this paper. Then, the progress of our research on ultrafast photoemission electron microscopy, including near-field imaging, near-field spectroscopy, and time-resolved ultrafast dynamics, in the field of nanophotonics, particularly in the field of surface plasmonics, is highlighted. These studies not only help to deepen understanding of the fundamental properties of surface plasmons and the interaction among different modes but also benefit the design and development of surface plasmonic applications. Finally, further potential applications of this technique are prospected.

孙泉, 祖帅, 上野贡生, 龚旗煌, 三泽弘明. 超快光电子显微技术在纳米光子学中的应用[J]. 中国激光, 2019, 46(5): 0508001. Quan Sun, Shuai Zu, Kosei Ueno, Qihuang Gong, Hiroaki Misawa. Applications of Ultrafast Photoemission Electron Microscopy in Nanophotonics[J]. Chinese Journal of Lasers, 2019, 46(5): 0508001.

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