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扫描干涉场曝光光束对准误差及其控制技术

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摘要

为了提升扫描干涉场曝光光束对准精度,保证制作出光栅掩模槽形的质量。建立了扫描曝光光束对准误差模型,利用模型对光束对准误差进行了分析。分析表明当光束存在较大对准误差时,光栅基底表面曝光对比度出现大幅度下降,而且由于采用步进扫描的曝光方式,使光刻胶表面出现了各处曝光不均匀的现象,影响光栅掩模槽形质量。为了满足系统对光束重叠精度的要求,设计研制了光束自动对准系统,并对曝光光束进行了对准实验。实验表明所设计的对准系统可以对光束角度与位置进行良好对准调节,系统整体表现出良好的收敛性能,多步调节后可以达到光束位置对准精度优于10μm,光束角度对准精度优于9μrad。这样的曝光光束对准精度可以满足系统要求,达到了预期设计目的。

关键词

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DOI:10.3788/aos201737.0722003

作者单位:

    长春光机所

引用该论文

王玮,巴音贺希格,潘明忠,宋莹,李文昊. 扫描干涉场曝光光束对准误差及其控制技术[J].光学学报,2017,37(7):0722003.