薄膜

天津津航技术物理研究所;天津市薄膜光学重点实验室;天津津航技术物理研究所;天津津航技术物理研究所; 天津市薄膜光学重点实验室;天津津航技术物理研究所;航天科工集团8358所;中国航天科工飞航技术研究院; 天津市薄膜光学重点实验室;天津津航技术物理研究所;天津8358所;哈尔滨工业大学光电子技术研究所;

光学薄膜常数的测试是薄膜光学技术领域内重要的研究内容。本文采用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5和HfO2薄膜，基于椭圆偏振测量技术，通过变换入射角度(10°-80°)研究了折射率、膜层厚度和表面层厚度与测试光斑大小（13.37mm2-72.37mm2）的关系：随着样品表面测试光斑尺寸的增加，呈现了薄膜折射率变小、膜层厚度增加、表面层厚度增加的变化趋势，HfO2薄膜折射率相对变化0.9%，膜层厚度相对变化0.7%，Ta2O5薄膜折射率相对变化0.7%，膜层厚度相对变化0.5%；对于60°入射角椭偏测量结果分析，使用轮廓仪测量表面粗糙度验证了表面层厚度，并通过反射光谱法验证了折射率和物理厚度的光斑效应。研究结果表明，光学薄膜的折射率与厚度具有横向弱非均匀性，这种弱均匀性可通过变角度的椭圆偏振法测量获得，大尺寸的测试光斑对折射率和物理厚度非均匀性起到了弱化作用。

刘华松, 杨霄, 刘丹丹, 姜承慧, 季一勤, 张锋, 王利栓, 姜玉刚, 陈德应. 离子束溅射薄膜光学常数表征的光斑效应研究[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1.  复制并引用该论文