铟钕掺杂钽酸锂单晶的生长及光学性能研究材料
1 南京航空航天大学理学院应用物理系
2 南京航空航天大学
3 南京航空航天大学应用物理系
稀土掺杂钽酸锂晶体不但具有优异的电光特性,而且可以实现光波频率转换,因而在集成光学中具有广泛应用。然而,较低的抗光损伤能力限制了其在大功率器件中的应用。通过掺杂工艺,可以提高其抗光损伤能力。本文采用提拉法生长了双掺杂1.0 mol% Nd3+和不同浓度In3+离子的同成分LiTaO3单晶(Li、Ta元素摩尔比为0.946)。测量了单晶的紫外-可见吸收光谱,由此讨论了缺陷结构,In3+离子的阈值浓度为3.0 mol%。当In3+离子达到阈值浓度时,In:Nd:LiTaO3晶体的抗光损伤能力显著提高。In3+离子取代了晶体中的反位钽TaLi4+,减弱了光折变效应。In:Nd:LiTaO3晶体在0.808 μm处吸收带的半高宽为15nm,吸收截面为σab = 5.26×10-21 cm2。采用0.808 μm半导体激光做泵浦,Nd3+离子在1.06 μm处出现强烈的荧光带。这些研究结果表明,作为多功能晶体In:Nd:LiTaO3可以应用于大功率的光子学或光电子学器件。
赫崇君, 李伟立, 王吉明, 顾晓蓉, 吴彤, 刘友文. 铟钕掺杂钽酸锂单晶的生长及光学性能研究[J]. 光学学报, 2018, 38(1): 3.
DOI:10.3788/aos201838.01材料03