网络首发

光学学报
ESCI,EI,SCOPUS,CJCR,CSCD,北图
2018年第38卷第5期1页
ZnO:W透明导电薄膜的调制生长与表面氢化处理的研究
录用时间:2017-11-13
网络首发时间:2018-01-10
论文栏目
薄膜
作者单位
1 景德镇陶瓷大学
2 景德镇陶瓷学院
论文摘要
在石英玻璃衬底上采用射频磁控溅射法在不同溅射功率下沉积ZnO:W薄膜层55 min,在此基础上,通入5%浓度氢气(H2/(H2+Ar)=5%),并保持溅射参数不变,表面氢化处理8 min获得表面直接绒面结构的ZnO:W透明导电薄膜。对样品的显微形貌、结构和表面绒度等性能进行测试与分析,结果表明:在200 W的溅射功率条件下,5%氢浓度氢化处理8 min获得的ZnO:W样品具有表面纳米柱状晶绒面结构,表面绒度综合指标CI值达到92.82, 同时具备最优异的电导性能(电阻率均值3.93×10-4 Ω·cm)。氢化处理使得薄膜表面形成的羟基基团具有相对疏松的结构,在高能溅射粒子的轰击作用下易于形成绒面结构,而这种表面绒面结构对可见光谱的减反射效应和增散射效应共同作用即陷光效应可提高对太阳光的捕获效率,有望进一步提高ZnO透明导电电极电池的转换效率。
引用本文
胡克艳, 陈义川, 张效华, 朱文均, 帅伟强, 胡跃辉. ZnO:W透明导电薄膜的调制生长与表面氢化处理的研究[J]. 光学学报, 2018, 38(5): 1. 
DOI:10.3788/aos201838.05薄膜01
PDF 全文:点击此处查看 

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!